Помощничек
Главная | Обратная связь


Археология
Архитектура
Астрономия
Аудит
Биология
Ботаника
Бухгалтерский учёт
Войное дело
Генетика
География
Геология
Дизайн
Искусство
История
Кино
Кулинария
Культура
Литература
Математика
Медицина
Металлургия
Мифология
Музыка
Психология
Религия
Спорт
Строительство
Техника
Транспорт
Туризм
Усадьба
Физика
Фотография
Химия
Экология
Электричество
Электроника
Энергетика

Элементарная теория классического эффекта Холла (для носителей заряда одного типа)



БЕЛОРУССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

ФАКУЛЬТЕТ РАДИОФИЗИКИ И КОМПЬЮТЕРНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

КАФЕДРА ФИЗИЧЕСКОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И НАНОТЕХНОЛОГИЙ

 

 

Методические указания к лабораторной работе


ИЗУЧЕНИЕ ЭФФЕКТА ХОЛЛА

 

Минск

СОДЕРЖАНИЕ

 

1. Цель и задачи работы

1.1 Цель работы

1.2 Подготовка и задание к работе

2.Эффект Холла

2.1 Элементарная теория классического эффекта Холла (для носителей заряда одного типа)

2.2 Режим тока Холла

3. Методика измерения ЭДС Холла

3.1 Аппаратура и образцы для измерения эффекта Холла

3.2 Задание по работе

3.3. Исходные характеристики исследуемого образца

4 Указания по оформлению отчета

Приложение А Теория эффекта Холла для полупроводника со смешанной электропроводностью

ЦЕЛЬ И ЗАДАЧИ РАБОТЫ

Цель работы

Целью работы является изучение физической сущности эффекта Холла – одного из физических явлений в полупроводниках – и практическое усвоение методики определения электрофизических характеристик полупроводниковых материалов с помощью эффекта Холла.

 

Подготовка и задание к работе

· изучить методические указания к лабораторной работе, обратив внимание на физическую сущность эффекта Холла и условия возникновения ЭДС либо тока Холла;

· ознакомиться с работой установки для проведения измерений ЭДС Холла методом постоянного поля и постоянного тока.

· измерить величины напряжения Холла (Ux) рассчитать коэффициент Холла (Rx), концентрацию (n) и подвижность (μx) носителей заряда.

 

ЭФФЕКТ ХОЛЛА

Эффект Холла является одним из гальваномагнитных (то есть обусловленных одновременным действием электрического и магнитного полей) явлений в полупроводниках. Он широко применяется на практике (например, для измерения напряженности (индукции) магнитного поля с помощью так называемых датчиков Холла) и в научных исследованиях (для изучения процессов переноса носителей заряда в полупроводниковых материалах).

Проявление эффекта Холла связано с возникновением ЭДС (классический эффект Холла) либо тока Холла.

 

Элементарная теория классического эффекта Холла (для носителей заряда одного типа)

Сущность классического эффекта Холла заключается в возникновении ЭДС, называемой ЭДС Холла, в направлении, перпендикулярном направлению тока, протекающего через образец, и направлению действующего на образец магнитного поля. Впервые появление поперечной (холловской) разности потенциалов в образце, находящемся в таких условиях, было зарегистрировано Э. Холлом в 1879 году на тонких пластинах золота.

Появление холловской разности потенциалов связано с действием силы Лоренца на движущиеся в кристалле заряды. Для количественного рассмотрения предположим, что образец полупроводника в виде прямоугольного параллелепипеда (рис. 2.1, а) имеет ширину а, толщину b и длину l, а ток протекает слева направо. В случае, если ток создается дырками, то скорость дрейфа Vp имеет то же направление, что и ток I (рис. 2.1, а, б). Если же носителями тока являются электроны, то Vn направлена в противоположную сторону (рис. 2.1, а, в).

 

Рис. 2.1. Отклонение электронов и дырок, движущихся в магнитном поле, в образце (а) и, в частности, дырок(б) и электронов (в).

 

Поместим полупроводник во внешнее магнитное поле, чтобы индукция В была направлена перпендикулярно току (к нам). При наличии внешнего магнитного поля на движущиеся носители тока действует сила Лоренца, которая перпендикулярна скорости их движения V и индукции магнитного поля B:

(2.1)

Для дырок векторное произведение и сила Лоренца будут направлены вниз, тогда как для электронов, заряд которых отрицателен, векторное произведение направлено вверх, а сила Лоренца – вниз (правило левой руки).

Следовательно, как дырки (в полупроводнике p-типа), так и электроны (в полупроводнике n-типа) будут отклоняться магнитным полем на нижнюю грань, а верхняя грань будет обедняться в первом случае дырками, во втором – электронами. Таким образом, в полупроводнике р-типа нижняя грань заряжается положительно, а верхняя грань – отрицательно. В результате возникает поперечное электрическое поле, называемое холловским полем, с напряженностью Еx, которое направленно снизу вверх. В полупроводнике n–типа нижняя грань (при том же направлении тока) заряжается отрицательно, верхняя – положительно и холловское поле направлено сверху вниз. Если в переносе электрического тока участвуют и дырки и электроны (случай смешанной проводимости), то картина значительно усложняется. Этот случай рассмотрен в Приложении А.

Положения дырки и электрона, отклоненных магнитным полем при дрейфовом перемещении на протяжении длины свободного пробега Lp и Ln изображены на рис. 2.1. При этом предполагается, что холловское поле еще отсутствует. Углы φn и φp называют углами Холла.

Если изобразить векторы плотности тока дырок и электронов, то, учитывая направления поворотов φn и φp, имеем, что плотности тока jp и jn поворачиваются в противоположные стороны (рис. 2.2 а, б). Здесь предполагается, что либо холловское поле еще не действует, либо имеется неограниченный по направлению b образец (последнее можно моделировать с помощью образца в виде диска).

 

Рис. 2.2. Изменение направления плотности тока дырок (а) и электронов (б) в магнитном поле; jpy и jny – проекции плотности тока на направление внешнего электрического поля.

 

В обычных условиях для ограниченного образца полупроводника накопление зарядов, отклоненных магнитным полем, происходит до тех пор, пока не уравновесятся силы, действующие на электрон (то есть сила, связанная с возникающим холловским полем не нейтрализует силу Лоренца). После достижения указанного динамического равновесия можно считать, что при наличии одного типа носителей заряда плотность тока jp и jn не отклоняется магнитным полем. Следовательно, при дальнейшем длительном пребывании полупроводника с током в поперечном магнитном поле устанавливается определенная поперечная разность потенциалов, которая при разомкнутой цепи и есть ЭДС Холла. Полная напряженность поля En является векторной суммой E и Exn составляет с E угол Холла φ (рис. 2.3).

Рис. 2.3. Угол Холла в дырочном (а) и электронном (б) полупроводниках.

 

Итак, при одном типе носителей заряда условием, определяющим холловское поле, является равенство абсолютных значений силы Лоренца и силы возникающего холловского поля:

(2.2)

или

(2.3)

Равенство (2.3) не может выполняться одновременно для всех электронов (дырок), имеющих различные по величине и направлению скорости. В действительности стационарное состояние наступает не тогда, когда сила Лоренца уравновешивает силу электрического поля для каждого электрона (это вообще не может быть), а когда ток, создаваемый холловским полем, компенсирует ток на боковую грань, создаваемый магнитным полем. Поэтому в выражении (2.3) стоит средняя скорость дрейфа.

Умножая обе части (2.3) на концентрацию электронов n, получим для полупроводника

n–типа

(2.4)

Поскольку произведение neVср равно плотности тока, то есть:

(2.5)

где а·b=S – площадь поперечного сечения образца, показанного на рис. 2.1, то на основании (2.4) и (2.5) получаем

(2.6)

Разность потенциалов = Exnb будет иметь вид:

(2.7)

Более точные расчеты, выполненные с учетом статистического распределения носителей заряда по скоростям в невырожденных полупроводниках, показывают, что

(2.8)

где А – постоянная величина, так называемый холл–фактор. Его значение определяется механизмами рассеяния.

Для полупроводниковых материалов основными механизмами рассеяния носителей тока являются рассеяние на тепловых колебаниях решетки и на ионах примесей. При рассеянии электронов на акустических колебаниях решётки, что имеет место в классических полупроводниковых материалах (например, в Si, Ge, InSb) при относительно высоких температурах (включая комнатную),


При рассеянии на ионах примеси


В металлах и сильно вырожденных полупроводниках, в которых все носители имеют одинаковую тепловую скорость, можно принять A=1.

Для полупроводника n-типа формулу (2.8) можно переписать в виде

(2.9)

где е – заряд электрона.

Коэффициент пропорциональности

(2.10)

называют постоянной Холла или коэффициентом Холла.

Для полупроводника р–типа коэффициент Холла

(2.11)

Соотношения (2.8), (2.10) и (2.11) играют чрезвычайно важную роль в физике полупроводников. Они показывают, что концентрация носителей заряда, их знак могут быть найдены экспериментально. Для этого необходимо в образце с известными геометрическими размерами измерить холловскую разность потенциалов и определить коэффициент Холла:

(2.12)

Зная коэффициент Холла и удельную электрическую проводимость материала, можно рассчитать холловскую подвижность . Действительно, домножив обе части уравнения типа (2.10) на , нетрудно установить взаимосвязь между этими величинами в виде следующего соотношения:

(2.13)

Следует иметь ввиду, что холловская подвижность совпадает с дрейфовой только при А=1.

Входящую в выражение (2.13) величину также можно определить экспериментально, измерив (см. ниже), или же, если известно сопротивление образца Rобр, рассчитать, воспользовавшись формулой:

 

(2.14)

где l, a, b – геометрические параметры образца.

 

Необходимо отметить, что при выводе выражения для коэффициента Холла и холловской подвижности использовались формулы (2.5) и (2.12), которые справедливы только в случае, когда магнитное поле отсутствует либо оно мало. Условие слабого магнитного поля можно записать в виде . Как правило, это условие выполняется при измерении эффекта Холла.

 

Режим тока Холла

Как следует из вышеизложенного, ЭДС Холла возникает при включении магнитного поля из-за накопления зарядов нестационарным холловским током на боковых гранях у поверхностей центральной части длинного и узкого образца. Если же образец короткий (см. рис. 2.4, 2.5), то есть длина образца (а) много меньше его ширины (b), то сила Лоренца, как и в предыдущем случае, отклоняет электроны. Однако в силу специфичной геометрии образца это не приводит к накоплению заряда где-либо в центральной части образца, а значит, и образованию там составляющей поля вдоль оси оу. Поле, уравновешивающее силу Лоренца, не возникает, а, следовательно, вдоль оси оу протекает стационарный холловский ток (Iy). Для его нахождения достаточно сделать разрыв токового электрода (расщепить электрод, см. рис. 2.5), а в разрыв включить измеритель тока. Основоположниками метода тока Холла являются Добровольский и Гриценко. Они использовали впервые этот метод в 1962 году для исследования процессов рассеяния в высокоомных полупроводниках.

Если вблизи поверхности образца происходит накопление зарядов (например, в случае, когда ≤ 5), то Ey=0. Следствием этого является изменение по сравнению с центральной частью плотности токов jy и jx. Области неоднородности напряженности электрического поля простираются на расстояние (1…1,5)а от соответствующих поверхностей и в них происходит замыкание противоположных контактов из-за протекания холловского тока. Можно показать, что через каждую пару контактов замыкается 0,5 Ix.

 

Рис. 2.4. Эффект Холла в «коротком» образце Рис. 2.5. Образец с ращеплёнными электродами для измерений эффекта Холлав режиме тока Холла (Ix=Ix1+Ix2; Iy=Iy1+Iy2)

 

При количественном рассмотрении учитывается, что Ey=0. Теоретически это условие выполняется в бесконечном образце, практически оно реализуется в диске Корбино (один электрод размещен в центре диска в виде оси, а второй – по ободу диска в виде кольца), а также в прямоугольном «коротком» образце (cм. рис. 2.4 и 2.5), ширина которого намного больше его длины.

Как отмечалось выше, в скрещенных электрическом и магнитном полях носители заряда под действием силы Лоренца F будут отклоняться в направлении у и, не встречая противодействия поперечного поля Ey, образовывать поперечный компонент тока плотностью j (см. рис. 2.4). В этом случае угол Холла будет определяться отношением плотностей токов jy к jx:

(2.15)

Векторы результирующего тока j (см. рис. 2.2) и результирующего поля Е (см. рис. 2.3) отклоняются в разные стороны относительно оси х.

Из выражения (2.15) следует

(2.16)

Полный ток Холла в образце с двумя расщепленными электродами (рис. 2.5) определяется выражением:

(2.17)

Значение подвижности носителей заряда в исследуемых образцах можно определить на основе соотношения:

(2.18)

а величину электропроводности, воспользовавшись формулой:

(2.19)

Третий параметр Rx, а значит и концентрацию носителей заряда, можно получить из комбинации первых двух:

(2.20)

Отметим, что если в режиме ЭДС Холла измеряется подвижность носителей, движущихся в направлении первичного тока , то в режиме тока Холла – подвижность носителей, движущихся в направлении вторичного тока . Величина

(2.21)

называется коэффициентом анизотропии кристалла.

При исследовании высокоомных материалов измерение в режиме тока Холла имеет преимущество перед измерением в режиме ЭДС Холла. Это связано с тем, что для измерителя тока значительно легче осуществить режим «короткого замыкания» RП<<Rоб (где , – соответственно внутреннее сопротивление измерительного прибора и сопротивление образца), чем «электрометрический режим» (RП>>Rоб) для измерителя напряжения. Кроме того, небольшая асимметрия между двумя частями разорванных электродов практически не влияет на результаты измерений в высокоомных образцах. Тогда как при измерении ЭДС Холла небольшая асимметрия в расположении потенциальных контактов может привести к большим погрешностям измерений величин.

К преимуществам режима тока Холла следует отнести тот факт, что токи, протекающие в разных сечениях образца по его толщине, аддитивно складываются. Следовательно, в токе Холла аддитивно складываются поверхностный и объемные токи. Это означает, что, изменяя величину прикладываемого к поверхности образца напряжения, можно разделить вклад поверхностного и объемного токов. Этот подход обычно используется при измерении подвижности носителей заряда в различных слоях неоднородных по толщине образцах, расположенных перпендикулярно направлению первичного тока .

Метод тока Холла успешно применяется для исследования подвижности носителей заряда в изоляторах, МДП-структурах. Важно только, чтобы при измерениях на таких объектах время диэлектрической (максвелловской) релаксации было существенно меньше, чем время установления холловского сигнала.

Следует иметь в виду, что метод тока Холла более подвержен влиянию контактных шумов, чем метод измерения ЭДС Холла, так как измеряемый сигнал снимается непосредственно с электродов, через которые протекает первичный ток. Поэтому контакты к образцу должны быть омическими.

 

 




Поиск по сайту:

©2015-2020 studopedya.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.