Помощничек
Главная | Обратная связь


Археология
Архитектура
Астрономия
Аудит
Биология
Ботаника
Бухгалтерский учёт
Войное дело
Генетика
География
Геология
Дизайн
Искусство
История
Кино
Кулинария
Культура
Литература
Математика
Медицина
Металлургия
Мифология
Музыка
Психология
Религия
Спорт
Строительство
Техника
Транспорт
Туризм
Усадьба
Физика
Фотография
Химия
Экология
Электричество
Электроника
Энергетика

Спектральная характеристика СИД



 

 
 

 

 


 

Рисунок 4 – Спектральная характеристика СИД

l0 – длина волны излучения, мкм;

 

Dl - ширина спектральной линии, нм.

 

3. Быстродействие СИД.

 

Показывает, на сколько быстро осуществляется преобразование электрического сигнала на входе СИД в оптический сигнал на выходе СИД. Импульс считается преобразованным, если его амплитуда достигла 0.9Рmax

 

Рисунок 5 – Быстродействие СИД

 

4. Время деградации СИД

 

- время, за которое мощность излучения при одном токе накачке уменьшиться ровно на половину. Время наработки для СИД – 10 тыс. часов.

 

ППЛ – ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ЛАЗЕР

Распределение e на 2-х уровнях ЗП.

Рассмотрим 2 произвольно взятых уровня ЗП, каждый из которых характеризуется своей концентрацией e (N1 , N2) и своей энергией (Е1,Е2). В состоянии покоя, концентрация этих уровней связана ч/з соотношение Больцмана.

(1)

 

при изменении параметров окр. среды, (температура, давление, и т.д.), структура начинает изменяться.

Если поместить такой излучатель во внешнее поле, в ППЛ возникнут три процесса:

- поглощение;

- СТИ – стимулированное излучение;

- СПИ – спонтанное излучение.

Эти процессы описываются вероятностным соотношением:

 

r12= r21+l21 (2): процессы поглощения преобладают над СТИ и СП

 

СПИ в ППЛ возникает при малых токах накачки.

При дальнейшем увеличении Iн процесс СПИ преобразуется в СТИ.

 

Из (2) более полное соотношение Энштейна:

 

(3);

поглощение СТИ СПИ

 

где:

- плотность энергии единицы объема вещества;

, - вероятности переходов электронов с уровня на уровень;

- вероятность появления СПИ.

 

(4)

 

N2>N1 => населенность верхнего уровня является инверсной по отношению к нижнему.

Из соотношения (5)

 

Видно, что для преобладания СТИ необходимо увеличить .

Для этого в ППЛ используется резонатор Фабри–Перо (РФП). Его конструкция представляет собой два расположенных параллельно друг другу полупрозрачных отшлифованных зеркала, между которыми располагается источник излучения (напр.СИД). Простейшая стр-ра лазера- легированные р и n области, между которыми находится очень тонкая (0.1-1 мкм) активная область, в которой с помощью источника питания создается инверсная населенность. (рисунок 6)

Рисунок 6 – Простейшая структура ППЛ

 

Чтобы в ППЛ возникло СТИ, необходимо, чтобы в РФП установился режим стоячей волны. В этом случае осуществляется накопление световой энергии на требуемой длине волны. L – длина РФБ. Она выбирается такой, чтобы на ней укладывалось целое число полуволн:

 

, где m=1,2,…

При малых токах накачки в активной области как и в СИД возникает спонтанное излучение. При этом активная область излучает спонтанные фотоны (СПФ) во все стороны и большая часть эту область покидает. Лишь единицы из них отразя­тся от зеркала РФП и пройдут строго в плоскости активной об­ласти к противоположному зеркалу. Сталкиваясь с электронами, они отдают им кванты энергии. Получив дополнительную энергию, некоторые электроны, находящиеся на энергетических уровнях в зоне проводимости, рекомбинируют с дырками вален­тной зоны. Вновь возникают фотоны, но в отличие от спонтанных, они являются стимулированными (СТФ), а излучение, которое они вызывают, называют вынужденным или стимулированным. При этом число СТФ растет лавинообразно, а поскольку число электронно-дырочных пар в единице объема, не меняется, стимулированное излучение начинает преобладать над спонтан­ным. При некотором пороговом токе накачки спонтанное излуче­ние окончательно подавляется. При этом мощность стимулирован­ного излучения резко возрастает. Этот режим называют режимом генерации лазера. На рисунке 2 показаны ватт-амперные харак­теристики лазера и отмечены области спонтанного[1] и стимулиро­ванного[2] излучений. Заметим, что величина порогового тока IП зависит от температуры кристалла (кривые I, 2, 3 на рисунке 7).

Рисунок 7 – Ватт-амперные характеристики ППЛ

 

[3]- область насыщения, в которой дальнейшее увеличение Iн не вызывает увеличения Ри. Это объясняется ограниченной пропускной способностью активного слоя.

 

Спектральная характеристика ППЛ.

Характеристика ППЛ более высокодобротная, чем характеристика СИД. Это объясняется конструктивным исполнением самого лазера и чистотой выбранных материалов. Для ППЛ применяются 3-х компонентные соединения ( AlGaAs с соответствующей примесью).

Т.к. в ППЛ используется резонатор, то накопление световой энергии идет на длине волны λ0 и на соседних длинах волн. При одномодовом режиме работы лазера, боковые составляющие подавляются, при многомодовом – используются в качестве несущих для соседних каналов (рисунок 8).

Рисунок 8 – Спектральная характеристика ППЛ

Диаграмма направленности ППЛ.

Диаграмма направленности ППЛ напоминает рупор. Угол расходимости для ППЛ- 600-700. (СИД-3600, СЛД-1200-1800)

Диаграмма направленности ППЛ самая узконаправленная за счет канализированности излучения внутри активного слоя. Растекание фотонов в соседние –р и –n области ограничивается.

 

 




Поиск по сайту:

©2015-2020 studopedya.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.