Помощничек
Главная | Обратная связь


Археология
Архитектура
Астрономия
Аудит
Биология
Ботаника
Бухгалтерский учёт
Войное дело
Генетика
География
Геология
Дизайн
Искусство
История
Кино
Кулинария
Культура
Литература
Математика
Медицина
Металлургия
Мифология
Музыка
Психология
Религия
Спорт
Строительство
Техника
Транспорт
Туризм
Усадьба
Физика
Фотография
Химия
Экология
Электричество
Электроника
Энергетика

В кристалле от давления паров над кристаллом



Мы рассмотрели тепловые дефекты и дефекты нестехиометрии. В общем случае концентрация различных дефектов в реальном кристалле является функцией температуры и давления Хдеф = f (T,P). Найдем зависимость равновесной концентрации дефектов от давления собственного пара при фиксированной температуре. Напишем квазихимические уравнения всех возможных реакций разупорядочения на примере бинарного кристалла АВ.

а) тепловое равновесие.

Беспорядок по Шоттки:

 

0 « VA +VB ; ; (4.7)

 

Беспорядок по Френкелю:

 

0 « VA + Ai ; ; (4.8)

 

б) равновесие распределения: твердое тело – газ.

 

АВкр « АВгаз ; КАВ = РАВ ; (4.9)

 

АВкр « Агаз + Вгаз ; КР = РА РВ ; (4.10)

 

Агаз « АА + VB ; ; (4.11)

 

Вгаз « ВВ + VA ; ; (4.12)

 

в) термическая ионизация дефектов.

 

VA « VA¢ + h ; ; (4.13)

VB « VB· + e ; ; (4.14)

 

Ai « Ai· + e ; ; (4.15)

 

г) переход электронов из валентной зоны в зону проводимости.

 

0 « e + h ; Ki = n p . (4.16)

 

Как видим, в одном и том же кристалле могут возникать дефекты разного сорта. Для заданных температуры и давления равновесная концентрация каждого из них определяется соответствующей константой равновесия. Вместе с тем, концентрации разных сортов дефектов взаимосвязаны, и любую из указанных констант можно выразить через другие константы. Например, комбинирование уравнений (4.7), (4.8) и (4.13) – (4.16) позволяет получить выражения для констант равновесия, характеризующих гомогенный процесс разупорядочения для случая, когда этот процесс сопровождается возникновением заряженных дефектов:

 

0 « VA¢ + VB· ; ; (4.17)

 

0 « Ai· + VA' . (4.18)

 

Умножив (4.7), (4.13), (4.14) и разделив на (4.16), получим

,

аналогично

.

 

Описанные квазихимические процессы приводят к образованию восьми видов дефектов: VA, VB, Ai, VA', VB·, Ai·, e, h, причем пять из них имеют определенный эффективный заряд, а три являются нейтральными. На основании принципа электронейтральности кристалла необходимо, чтобы число отрицательных эффективных зарядов в кристалле было равно числу положительных. При беспорядке по Шоттки:

 

, (4.19)

 

при беспорядке по Френкелю:

 

. (4.20)

 

Комбинирование уравнений позволяет получить выражения для концентрации всех видов дефектов в зависимости от давления пара любого из двух компонентов системы. Для нейтральных дефектов при беспорядке по Шоттки эти выражения даются уравнениями (4.11), (4.12), полностью описывающими образование дефектов в кристалле лишь в том случае, если равновесие реакций (4.13), (4.14) сильно сдвинуто влево. Общим случаем является тот, когда в кристалле существуют все виды дефектов как заряженных, так и нейтральных. Он характеризуется константами равновесия . Можно вывести уравнения, описывающие зависимость концентрации дефектов всех сортов, возникающих в кристалле АВ, от давления пара компонентов. Возможны три случая: РА << РВ, РА » РВ, РА >> РВ. При РА << РВ условия для возникновения вакансий в анионной подрешетке неблагоприятные. Кристалл будет обогащаться катионными вакансиями. Процессом (4.14) можно пренебречь. В кристалле будут доминировать два вида заряженных дефектов: отрицательно заряженные катионные вакансии и дырки. Условие электронейтральности может быть приближенно записано так:

 

(4.21)

 

При РА >> РВ условия благоприятны для возникновения вакансий в анионной подрешетке. Если в кристалле возникает беспорядок по Френкелю, это приведет к возрастанию концентрации междоузельных атомов А. Условие электронейтральности при беспорядке по Шоттки запишется в виде , а при беспорядке по Френкелю . Когда РА » РВ, условия для возникновения вакансий в обеих подрешетках приблизительно одинаковы и должны выполняться условия (4.19) или (4.20).

Рассмотрим случай, когда РА << РВ. Из (4.13), используя(4.21), получим . Из (4.12) , тогда . Из (4.10) , тогда Из равенства (4.17) получаем , следовательно . Таким образом можно получить зависимости концентраций дефектов всех видов от давления паров над кристаллом. Найденные зависимости концентраций различных дефектов в кристалле от давления пара в общем случае могут быть записаны в виде .

 

 




Поиск по сайту:

©2015-2020 studopedya.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.