Мы рассмотрели тепловые дефекты и дефекты нестехиометрии. В общем случае концентрация различных дефектов в реальном кристалле является функцией температуры и давления Хдеф = f (T,P). Найдем зависимость равновесной концентрации дефектов от давления собственного пара при фиксированной температуре. Напишем квазихимические уравнения всех возможных реакций разупорядочения на примере бинарного кристалла АВ.
а) тепловое равновесие.
Беспорядок по Шоттки:
0 « VA +VB ; ; (4.7)
Беспорядок по Френкелю:
0 « VA + Ai ; ; (4.8)
б) равновесие распределения: твердое тело – газ.
АВкр « АВгаз ; КАВ = РАВ ; (4.9)
АВкр « Агаз + Вгаз ; КР = РА РВ ; (4.10)
Агаз « АА + VB ; ; (4.11)
Вгаз « ВВ + VA ; ; (4.12)
в) термическая ионизация дефектов.
VA « VA¢ + h ; ; (4.13)
VB « VB·+ e ; ; (4.14)
Ai « Ai· + e ; ; (4.15)
г) переход электронов из валентной зоны в зону проводимости.
0 « e + h ; Ki = n p . (4.16)
Как видим, в одном и том же кристалле могут возникать дефекты разного сорта. Для заданных температуры и давления равновесная концентрация каждого из них определяется соответствующей константой равновесия. Вместе с тем, концентрации разных сортов дефектов взаимосвязаны, и любую из указанных констант можно выразить через другие константы. Например, комбинирование уравнений (4.7), (4.8) и (4.13) – (4.16) позволяет получить выражения для констант равновесия, характеризующих гомогенный процесс разупорядочения для случая, когда этот процесс сопровождается возникновением заряженных дефектов:
0 « VA¢ + VB· ; ; (4.17)
0 « Ai· + VA' . (4.18)
Умножив (4.7), (4.13), (4.14) и разделив на (4.16), получим
,
аналогично
.
Описанные квазихимические процессы приводят к образованию восьми видов дефектов: VA, VB, Ai, VA', VB·, Ai·, e, h, причем пять из них имеют определенный эффективный заряд, а три являются нейтральными. На основании принципа электронейтральности кристалла необходимо, чтобы число отрицательных эффективных зарядов в кристалле было равно числу положительных. При беспорядке по Шоттки:
, (4.19)
при беспорядке по Френкелю:
. (4.20)
Комбинирование уравнений позволяет получить выражения для концентрации всех видов дефектов в зависимости от давления пара любого из двух компонентов системы. Для нейтральных дефектов при беспорядке по Шоттки эти выражения даются уравнениями (4.11), (4.12), полностью описывающими образование дефектов в кристалле лишь в том случае, если равновесие реакций (4.13), (4.14) сильно сдвинуто влево. Общим случаем является тот, когда в кристалле существуют все виды дефектов как заряженных, так и нейтральных. Он характеризуется константами равновесия . Можно вывести уравнения, описывающие зависимость концентрации дефектов всех сортов, возникающих в кристалле АВ, от давления пара компонентов. Возможны три случая: РА << РВ, РА » РВ, РА >> РВ. При РА << РВ условия для возникновения вакансий в анионной подрешетке неблагоприятные. Кристалл будет обогащаться катионными вакансиями. Процессом (4.14) можно пренебречь. В кристалле будут доминировать два вида заряженных дефектов: отрицательно заряженные катионные вакансии и дырки. Условие электронейтральности может быть приближенно записано так:
(4.21)
При РА >> РВ условия благоприятны для возникновения вакансий в анионной подрешетке. Если в кристалле возникает беспорядок по Френкелю, это приведет к возрастанию концентрации междоузельных атомов А. Условие электронейтральности при беспорядке по Шоттки запишется в виде , а при беспорядке по Френкелю . Когда РА » РВ, условия для возникновения вакансий в обеих подрешетках приблизительно одинаковы и должны выполняться условия (4.19) или (4.20).
Рассмотрим случай, когда РА << РВ. Из (4.13), используя(4.21), получим . Из (4.12) , тогда . Из (4.10) , тогда Из равенства (4.17) получаем , следовательно . Таким образом можно получить зависимости концентраций дефектов всех видов от давления паров над кристаллом. Найденные зависимости концентраций различных дефектов в кристалле от давления пара в общем случае могут быть записаны в виде .